Mott presenta tecnología de filtración de vanguardia en Semicon West 2016
Mott Corporation asiste actualmente a SEMICON West 2016, colaborando con fabricantes y distribuidores de herramientas clave. Estamos lanzando varios productos nuevos en estas reuniones, incluido un desarrollo que configura la industria en el ámbito de la filtración de partículas submicrónicas que lleva la filtración de gas a la par con las necesidades de control de contaminación de los nodos de línea actuales y futuros.
Junto con este anuncio hay presentaciones de desarrollos clave en la filtración y control de flujo de materiales precursores organometálicos que se han vuelto muy populares en el avance de la Deposición de Capa Atómica para la fabricación de chips 3D y Fin-Fet.
La división High Purity de Mott ha estado desarrollando activamente nuevos medios para su uso en el control atmosférico de bloqueo de carga y manipulación de obleas, lo que permite una ventilación óptima, reduce la contaminación por partículas y la tecnología de difusión más duradera de la industria, lo que permite 3 veces la vida útil actual de los productos existentes.
Para preguntas y convocatorias de reuniones, comuníquese con Kevin McGuffin ([email protected]) o Sean Kane ([email protected]) si planeas estar en el show o en San Francisco.
