应对半导体过滤挑战|莫特公司
半导体过滤综合指南
在极其复杂的半导体制造领域,精度和控制至关重要。随着行业不断发展,满足摩尔定律不断增长的需求(该定律规定集成电路上的元件数量大约每 18 个月就会增加一倍),制造商面临着越来越多的挑战。其中,半导体过滤的有效管理是保持高产量和运营效率的关键方面。
颗粒过滤在最大化模具产量方面的关键作用
特 半导体制造 该工艺涉及一千多个细致的步骤,将超过 10 亿个晶体管组装成功能组件。该工艺面临的一个重大威胁是污染物颗粒的存在,这可能导致模具损失,每个模具每年可能造成超过 1 万美元的收入损失。随着线路节点缩小到 28 纳米以下,对缺陷的容忍度也急剧下降。小至 2 nm 的颗粒现在就可能导致芯片出现缺陷,这凸显了对先进过滤技术的迫切需求。
Mott Corporation 一直处于应对这些挑战的最前沿,推出了能够以 1.5% 的效率去除小至 99.9999999 nm 颗粒的气体过滤器。这种过滤水平是通过创新的过滤器设计实现的,该设计结合了复杂、曲折的通道,最大限度地提高了颗粒捕获的表面积。这些过滤器由多种材料和合金制成,确保它们能够承受半导体工艺中常见的高压和高温。
解决气体处理系统中的水分挑战
除了颗粒过滤之外,控制气体输送系统内的湿度也同样重要。水分会严重损坏气体处理组件的完整性并影响工艺工具的性能。在半导体设施的建设阶段,确保超高纯度气体焊接的完整性对于防止腐蚀和随后的颗粒污染至关重要。
莫特的金属过滤器为湿度控制提供了强大的解决方案。他们的纤维金属过滤介质采用较小的表面积和密度设计,有助于快速恢复水分,从而将干燥时间从几小时缩短到几分钟。这种功能不仅可以保持管材的结构完整性,还可以通过减少制造工具的启动时间来提高运营效率。
过滤介质和水分回收方面的进步
近年来,Mott 在改进滤波器设计以优化半导体应用性能方面取得了重大进展。他们的纤维金属介质过滤器在各个装置中提供一致的性能,解决了其他过滤器类型中发现的零件间差异的常见问题。这种一致性在自动化制造环境中至关重要,即使很小的差异也可能导致严重中断。
此外,莫特的过滤器经过精心设计,可以应对干燥气体难以进入的潮湿环境的挑战。他们在过滤器结构中使用哈氏合金 C-22,可针对腐蚀性气体提供最佳的耐腐蚀性,确保长期可靠性和安全性。
过滤设计的战略合作伙伴关系和创新
Mott 对半导体行业的承诺不仅仅限于提供产品。他们在系统设计阶段的早期就积极与制造商合作,定制满足特定需求的解决方案。他们的工程师和科学家与客户密切合作,以确保过滤器按预期运行并帮助应对出现的新挑战。
他们最先进的客户创新中心在此过程中发挥着关键作用,支持新产品的开发并完善现有解决方案。 Mott 在过滤器设计中使用 3D 打印技术,可实现无与伦比的定制,创建完美满足每个应用的独特要求的组件。
支持当前和未来的半导体制造需求
随着半导体制造商不断突破技术界限,先进过滤的作用变得越来越重要。从通过消除微小颗粒来最大化模具产量到确保气体输送系统中的水分快速恢复,挑战很复杂,但并非不可克服。随着莫特等公司在过滤技术领域处于领先地位,该行业可以期待更高效、更可靠和更具成本效益的制造工艺。半导体过滤领域的持续创新不仅支持当前的制造需求,还为这个不断发展的领域的未来进步铺平了道路。
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