GasShield® 챔버 디퓨저
Mott Gasshield 가스 디퓨저는 균일하고 층류의 가스 흐름을 제공하여 입자 교란을 최소화합니다. 그들 0.0015μm보다 큰 입자를 효과적으로 제거하여 웨이퍼 품질을 향상시키고 6,000,000사이클 이상의 수명을 제공하므로 반도체 제조를 위한 신뢰할 수 있는 선택입니다.
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문헌 및 데이터 시트
전형적인 신청
챔버 디퓨저는 다음과 같은 응용 분야에서 환기에 사용됩니다.
»로드 락 챔버
»이송 챔버
»냉각 실 및
»공정 챔버
of 반도체 장비 인터페이스 (CVD, PVD, Etch, Epi) 또는 다른 진공 챔버
Mott Semiconductor 제품 카탈로그
반도체 제조업체 전용으로 설계된 Mott의 광범위한 고순도 필터, 디퓨저 및 유량 제한기를 살펴보십시오.
HP 디퓨저 설치 안내서
Mott 고순도 GasShield® 디퓨저 제품의 취급 및 설치 지침
제품 사양
| 작동 조건 |
»최대 작동 압력 : 60 psig (4.2 barg) »불활성 가스의 최대 작동 온도 O 링없이 860 ° F (460 ° C) O 링 사용시 212 ° F (100 ° C) »최대 차압 : 75 psid (5.0 bar) |
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| 설치 정보 |
HP 디퓨저 설치 안내서 참조 https://mottcorp.com/resource/gasshield-diffuser-handling-installation-instructions/ 참고 : VCR® 피팅의 경우 항상 손으로 너트를 조인 다음 렌치 (VCR 호환 렌치)를 사용하여 손으로 조이면서 1/8 바퀴 이상 돌려 제대로 맞도록하십시오. |
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| 소스 |
» 하드웨어: 316L SS 또는 Alloy 22* » 필터 매체: 316L SS 섬유 또는 합금 22* » 습식 하드웨어 표면 마감: 10 Ra *Alloy 22 또는 UNS NO6022는 일반적으로 Hastelloy® C-22®라고 하는 니켈-크롬-몰리브덴 초합금입니다. |
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| 제품 사양 |
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| 흐름 데이터 |
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| 연결 및 치수 |
* 사용자 정의 디자인 및 피팅 가능. |
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흐름 곡선을 사용할 수 있습니다. 자세한 내용은 사양 시트 및 공장을 참조하십시오.
우리의 디자인 기능
- 거의 모든 시스템 설계를위한 유량 / 압력 강하 곡선 및 여과 효율
- 가스 호환성 고려 사항
- 맞춤형 필터 매체, 가스 디퓨저, 압력 용기, 피팅 재료 및 구성 이용 가능
관련 서비스
가스 디퓨저 설계 전문 지식 – 우리는 처음부터 끝까지 귀하의 설계 매개변수를 기반으로 한 맞춤형 가스 확산기 솔루션을 전문으로 합니다. 우리에게 도전하십시오!
유체 모델링 – 당사의 광범위한 애플리케이션은 가스 디퓨저 흐름 모델의 정확성을 높이기 위해 데이터 라이브러리를 구축하여 프로토타입을 제작하기 전에 초기 성능 및 타당성 추정치를 제공합니다.
광범위한 파트너 네트워크 – 재료가 목록에 없거나 사내 역량이 없는 경우, 당사는 새로운 재료 조달, 고급 제조 역량 및 가스 확산기 검증 테스트를 위한 광범위한 파트너 네트워크를 유지합니다.
엔지니어링 지원 – 당사의 전문 엔지니어를 활용하여 귀하의 응용 분야에 이상적인 가스 확산기 솔루션을 설계하십시오.
가스 디퓨저 정보
가스 디퓨저는 주변 환경의 입자나 불순물을 방해하지 않고 균일하고 제어된 가스 분배를 보장하기 위해 다양한 산업에서 사용되는 필수 구성 요소입니다. 이는 고품질 생산 공정을 위해 깨끗하고 입자가 없는 분위기를 유지하는 것이 중요한 반도체 제조와 같은 응용 분야에서 중요한 역할을 합니다. 가스 확산기는 유입되는 가스에서 0.0015μm보다 큰 입자를 제거하여 웨이퍼의 결함을 최소화하는 데 도움이 됩니다.
Mott는 맞춤형 설계 및 엔지니어링에 대한 전문 지식으로 인해 가스 확산기의 선도적인 공급업체로 두각을 나타내고 있습니다. 가스 디퓨저는 특정 설계 매개변수에 맞게 조정되어 최적의 성능과 신뢰성을 보장합니다. Mott의 광범위한 경험, 유체 모델링 기능 및 광범위한 파트너 네트워크를 통한 고급 재료에 대한 액세스는 가장 까다로운 산업 요구 사항을 충족하는 가스 확산기를 제공하는 능력에 기여하여 중요한 가스 분배 응용 분야에서 선호되는 선택이 됩니다.
FAQ: 가스 디퓨저
Q: 가스 디퓨저란 무엇이며 어떻게 작동합니까?
A: 가스 디퓨저는 주변 환경의 입자나 오염 물질을 방해하지 않고 가스를 균일하고 제어된 방식으로 분배하는 데 사용되는 장치입니다. 이는 특별히 설계된 채널이나 구조를 통해 들어오는 가스를 확산시켜 가스 흐름에서 지정된 크기보다 큰 입자를 제거하는 동시에 균일한 분포를 보장하는 방식으로 작동합니다.
Q: 반도체 제조에서 가스 확산기가 중요한 이유는 무엇입니까?
A: 가스 디퓨저는 깨끗하고 입자가 없는 환경을 유지함으로써 반도체 제조에서 중요한 역할을 합니다. 이는 유입되는 가스에서 0.0015μm보다 큰 입자를 제거하여 웨이퍼의 결함을 최소화하고 고품질 생산 공정을 보장하며 수율 손실을 최소화하는 데 도움이 됩니다.
Q: Mott의 가스 디퓨저가 시중의 다른 가스 디퓨저와 차별화되는 점은 무엇입니까?
답변: Mott의 가스 디퓨저는 맞춤형 설계 기능, 정밀 엔지니어링 및 광범위한 업계 경험으로 인해 두각을 나타냅니다. 특정 설계 매개변수를 기반으로 맞춤형 솔루션을 제공하여 최적의 성능과 신뢰성을 보장합니다. 유체 모델링에 대한 Mott의 전문 지식, 광범위한 파트너 네트워크를 통한 고급 재료에 대한 액세스 및 엄격한 산업 요구 사항을 충족하려는 노력으로 인해 중요한 가스 분배 응용 분야에 대한 신뢰할 수 있는 선택이 되었습니다.
Q: Mott는 다양한 응용 분야 및 산업에 가스 확산기를 제공할 수 있습니까?
A: 예, Mott는 광범위한 응용 분야 및 산업에 맞게 맞춤화할 수 있는 가스 확산기를 제공합니다. 반도체 제조, 항공우주 또는 기타 특수 응용 분야에 가스 확산기가 필요한 경우 Mott의 엔지니어링 지원 및 설계 전문 지식은 귀하의 고유한 요구 사항에 맞는 솔루션을 제공할 수 있습니다.
